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          超純水硅表的這些知識值得我們學(xué)習(xí)
          發(fā)布時間:2025-07-25

          超純水硅表采用電化學(xué)分析原理進(jìn)行測量。這種方法通常基于硅在特定電極表面發(fā)生的氧化還原反應(yīng)。例如,在含有特定電解質(zhì)溶液的電化學(xué)池中,硅離子在電極表面發(fā)生氧化反應(yīng),產(chǎn)生與硅含量相關(guān)的電流信號。通過測量該電流信號的大小,并結(jié)合電化學(xué)模型和校準(zhǔn)曲線,就可以確定水樣中硅的含量。電化學(xué)分析法...

          • 發(fā)布時間:2023-06-16

            哈希分析儀是根據(jù)熒光技術(shù)和光電子檢測技術(shù)相結(jié)合而設(shè)計的。它主要包括光源系統(tǒng)、熒光探針、檢測通路、信號采集與處理模塊以及數(shù)據(jù)處理軟件等組成部分。在實際應(yīng)用中,將需要測試的樣品加入到分析儀所提供的專用培養(yǎng)基中,通過培養(yǎng)和發(fā)酵,檢測出水中有機(jī)物的含量等化學(xué)指標(biāo)。樣本在熒光探針的激發(fā)下起熒光,然后由檢測通路按順序傳輸?shù)綑z測單元。當(dāng)樣品溶液經(jīng)過光電探測器時,探頭將會對其所發(fā)出的熒光信號進(jìn)行測量,進(jìn)而得出熒光強(qiáng)度值。儀器每隔一個固定的時間間隔便會記錄一次熒光強(qiáng)度值的變化情況,這個過程會持...

          • 發(fā)布時間:2023-05-23

            氫氟酸濃度計是一種用于測量溶液中氫氟濃度的儀器。HF是無色、刺激性強(qiáng)的揮發(fā)性液體,能夠腐蝕硬質(zhì)物質(zhì)及尤其對皮膚有刺激作用。因此,在工業(yè)生產(chǎn)過程中進(jìn)行HF酸性溶液稀釋時,為了保證安全生產(chǎn),需要進(jìn)行嚴(yán)格的濃度控制,這也是濃度計應(yīng)用的重要場合之一。氫氟酸濃度計的原理主要有兩種,一種是基于鈉離子選擇電極原理,另一種是利用高頻聲波傳播時間差變化來計算溶液濃度。鈉離子選擇電極測量法一般由參比電極和離子選擇電極組成。參比電極與測試溶液搭建電勢基準(zhǔn),鈉離子選擇電極是一種特殊的玻璃電極,其外層...

          • 發(fā)布時間:2023-04-18

            氫氧化鉀(KOH)是一種重要的化學(xué)試劑,廣泛用于工業(yè)、實驗室和醫(yī)療領(lǐng)域。在實驗室中,氫氧化鉀濃度計是一種非常有用的設(shè)備,可以幫助研究人員準(zhǔn)確地測量氫氧化鉀溶液的濃度。氫氧化鉀濃度計通常由兩個主要部分組成:一個探頭和一個顯示器。探頭是通過電極與溶液接觸來測量其酸堿度,并將這些數(shù)據(jù)傳輸?shù)斤@示器上。顯示器通常具有數(shù)字和圖形顯示功能,可輕松讀取測量結(jié)果。在使用氫氧化鉀濃度計之前,必須進(jìn)行校準(zhǔn)。校準(zhǔn)可確保測量的準(zhǔn)確性,尤其是在各種環(huán)境條件下。為了進(jìn)行校準(zhǔn),需要準(zhǔn)備標(biāo)準(zhǔn)氫氧化鉀溶液,測量...

          • 發(fā)布時間:2023-04-11

            氟離子濃度計是一種用于測量水中氟化物離子濃度的儀器,通常使用電極對和指示器來檢測水中氟離子的濃度,并將結(jié)果顯示在數(shù)字或模擬讀數(shù)上,可以準(zhǔn)確地測量出氟離子的含量,從而幫助科學(xué)家更好地了解液體中的成分和性質(zhì),工作原理是基于氟離子與電極之間的反應(yīng),當(dāng)氟離子與電極接觸時,它會發(fā)生電化學(xué)反應(yīng),并釋放出電流,通過測量電流的大小,可以計算出氟離子的濃度,優(yōu)點是準(zhǔn)確、可靠、易于使用。氟是自然界中廣泛存在的一種離子,但由于它在高濃度下會對人體健康產(chǎn)生負(fù)面影響,因此需要進(jìn)行監(jiān)測。許多國家都針對飲...

          • 發(fā)布時間:2023-04-07

            超純水硅表是一種應(yīng)用廣泛的材料,特別是在微電子制造領(lǐng)域有著重要的地位。在這篇文章中,我們將圍繞它的制造、性質(zhì)以及應(yīng)用進(jìn)行討論。超純水硅表的制造,這種材料制備需要經(jīng)過多個步驟,包括:1.經(jīng)過氧化處理的硅片從高溫爐中取出,并通過化學(xué)加工去除表面的氧化層,制成非晶態(tài)硅。2.待非晶態(tài)硅經(jīng)過熱處理后,形成很高純度的晶體硅片。3.利用化學(xué)氣相沉積技術(shù),在硅片表面形成極薄的二氧化硅層。4.之后通過激光微加工等方法制備出超純水硅表。超純水硅表的性質(zhì)它是一種具有高度單晶性和無定形結(jié)構(gòu)的材料。相...

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